첨단반도체1 반도체 노광 공정: EUV, DUV 노광장비 차이점 알아보기 반도체 노광 공정: EUV, DUV 노광장비 차이점 알아보기 반도체 제조 공정은 수많은 정교한 단계를 거치며 그중에서도 노광(Lithography) 공정은 핵심적인 역할을 합니다. 특히, EUV(Extreme Ultraviolet)와 DUV(Deep Ultraviolet) 노광장비는 첨단 반도체 공정에서 중요한 역할을 하며, 기술적 차이에 따라 각기 다른 장점과 한계를 지니고 있습니다. 이 글에서는 EUV와 DUV 노광장비의 개념, 차이점, 그리고 실제 반도체 제조 공정에서의 적용에 대해 살펴보겠습니다. 노광 공정이란? 노광 공정은 반도체 웨이퍼 위에 원하는 회로 패턴을 형성하기 위해 빛을 사용해 감광제를 노출시키는 과정입니다. 이를 통해 미세한 회로 패턴이 형성되고, 반도체 칩의 집적도가 결정됩니다. .. 2024. 11. 10. 이전 1 다음
